제품 이름: |
혼합 침대 시스템 |
소재: |
탄소강 / 스테인리스강 / FRP |
크기: |
맞춤형 |
색상: |
푸른 / 녹색 |
종류: |
순수한 물처리 시스템 |
전압: |
220V/380V |
적용: |
농업/전력/석유 및 가스/광산/의료 및 실험실/환경 보호 |
사용: |
수처리 시스템/폐수 처리 시스템/순수 처리 시스템 |
제품 이름: |
혼합 침대 시스템 |
소재: |
탄소강 / 스테인리스강 / FRP |
크기: |
맞춤형 |
색상: |
푸른 / 녹색 |
종류: |
순수한 물처리 시스템 |
전압: |
220V/380V |
적용: |
농업/전력/석유 및 가스/광산/의료 및 실험실/환경 보호 |
사용: |
수처리 시스템/폐수 처리 시스템/순수 처리 시스템 |
사용자 정의 가능성 초정수 정화 닦기 - 혼합 침실 시스템
1, 설명:
순수 혼합 침전 시스템은 폐수 처리 시스템과 순수 처리 시스템의 구성 요소 중 하나입니다.주로 이온 교환 樹脂을 통해 물에서 이온 불순물을 제거하고 고 순수 물을 생산합니다.순수 혼합 침상 시스템은 주로 카티온 교환 樹脂과 아니온 교환 樹脂로 구성되어 혼합 침대를 형성합니다. 물이 혼합 침대를 통과하면카티온 (칼슘 등), 마그네슘, 나트륨) 는 물 속에 있는 아니온들이 (클로린, 술파트, 탄산 등) 는 아니온 교환 합금에 의해 흡수되고,그래서 물 속의 모든 이온 불순물이 제거됩니다, 그리고 고 순수 물은 생산됩니다.
제품 매개 변수:
RO 초순수 용량 흐름 | 각 선에 약 0.5에서 350 m3/h까지 사용할 수 있습니다. | |||||||||||
보통 2x100% 또는 1x100% | ||||||||||||
맑은 물의 질 | 저항성 | ≤ 18.2 | ||||||||||
실리콘산 | ≤ 10 μg/L SiO2 (표준) | |||||||||||
나트륨 | ≤ 5 μg/L Na (표준) | |||||||||||
명소 흐름의 차압 | 보통 약 1 ~ 3.5 바 | |||||||||||
작동 온도 | 보통 5 ~ 40 °C | |||||||||||
재생 물질 | 일반적으로 염화수소 (HCl) 와 수소화수소 (NaOH) | |||||||||||
재생 간격 | 권장 ≤ 4주 (밀집 침대 닦기) 보통 24~240시간 (근무 혼합 침대) |
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이온 교환 합신의 전체 사용 기간 | 보통 약 6개월... 1년 | |||||||||||
재료 옵션 | 압력 용기 | • 유리로 만든 플라스틱 (GRP) • 탄소 강철 (예: S235JR, P265GH) • 스테인리스 스틸 (예: 1.44041.4571) |
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파이프 라인 | • 폴리 비닐 엽수 (PVC) • 폴리프로필렌 (PP) • 폴리 비닐린 플루오라이드 (PVDF) • 스테인리스 스틸 (예: 1.44041.4571) |
|||||||||||
밸브 | • 폴리 비닐 엽수 (PVC) • 폴리프로필렌 (PP) • 폴리 비닐린 플루오라이드 (PVDF) • 스테인레스 스틸 (예를 들어 1.4408) |
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펌프 | • 에틸렌 프로필렌 다이엔 모노머 고무 (EPDM) • 플루오로 엘라스토머 (FKM) • 폴리테트라플루로 에틸렌 (PTFE) |
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제어 옵션 | 프로세스 모니터링 | • 부피 카운터 (표준) • 차압 (표준) • 저항성 (표준) • 나트륨 (선택) • 실리시산 (선택) • 전체 유기 탄소 (TOC) (선택) |
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※ 파라미터와 세부 사항은 고객의 요구에 맞게 조정할 수 있습니다. |
3. 특수성:
1고 순수 물: 혼합 베드 시스템은 물의 모든 카티온과 애니온을 제거 할 수 있으며 생성 된 물의 전도도는 매우 낮습니다. 일반적으로 0.1 μS/cm 또는 그 이하입니다.이론적으로 순수한 물 근처.
2간단하고 효율적: 비교적 간단한 작동, 단지 정기적으로 물의 품질과 樹脂 재생을 모니터링 할 필요가 있습니다, 시스템 운영은 안정적이고 신뢰할 수 있습니다.
3• 컴팩트 디자인: 시스템은 컴팩트하고, 작은 발자국으로, 다양한 경우에 적합합니다.
4자동 제어:Modern mixed-bed systems are usually equipped with an automated control system that monitors water quality and operating conditions in real time and automatically performs regeneration and switching operations.
4 장치는:
1전자 및 반도체 산업: 웨이퍼 제조 및 전자 부품 청소의 필요를 충족시키기 위해 초순정 물을 생산하는 데 사용됩니다.
2제약 산업: 좋은 제조 관행 (GMP) 의 요구 사항을 충족시키기 위해 주사용 물, 정제 물 등을 준비하는 데 사용됩니다.
3실험실: 다양한 정밀 실험의 요구 사항을 충족시키기 위해 실험실에 고 순수 반응기 물을 제공하십시오.
4화학 산업: 고 순수 화학 용액과 처리 물을 준비하고 제품 품질과 생산 효율성을 향상시키는 데 사용됩니다.
5발전소: 보일러 구성 물 및 냉각 물 시스템에 사용되며, 스케일 및 부식 방지, 장비 수명을 연장합니다.